7月6日，荷兰光刻机巨头ASML公开回应：“公司一直以来都遵守所适用的法律条例，我们并没有面向中国市场推出特别版的光刻机”。

这是ASML官方对近期的一则传闻做出的回应。

随着美、日、荷三国纷纷发布半导体设备出口限制后，市场上传了一则消息，说ASML将针对中国市场推出特供版DUV光刻机。

传闻是根据美国芯片巨头推断而出的。

1、华为失去台积电代工后，经过多次协商，最终拿到了高通的4G版骁龙芯片，手机业务得以延续；

2、英伟达受限后，针对中国市场推出了A800、H800 GPU，尽管性能有所降低，但最终还是供货了；

3、由于AMD的持续发力，英特尔业绩暴跌，为此也推出了中国版CPU，希望可以通过降价夺回市场。

既然高通、英伟达、AMD都可以推出中国版芯片，那ASML为何不能推出中国版DUV光刻机呢？

就因为ASML不是美国企业？或许真被你说对了！

ASML落后淘汰产能出口至中国

ASML成立于1984年，至今不过40年，却把美国GCA、日本尼康踩在了脚下，成为全球光刻机龙头。

目前，全球70%的光刻机由ASML制造和销售，同时全球最先进的的EUV光刻机也都出自ASML之手。

这种一家独大的局面，让芯片制造企业有苦难言。为了购买到先进的光刻机，台积电、三星、英特尔早早的付钱排队，而中芯国际即便是付了钱也拿不到先进产品。

光刻机主要分为以下几种：

ArFi光刻机就是浸润式DUV光刻机，9月1日开始对中国企业实施出口管控，而EUV光刻机则从来没有出口至内地企业中。

一、中国企业买不到EUV光刻机。

2006年,ASML正式推出第一代EUV光刻机，这两台光刻机基本是演示工具，旨在向世界宣告ASML的产品如何强大。

2010年，ASML推出了第二代EUV光刻机NXE:3100，这一代只生产了6台，主要用于试验。

2013年的3300B、3350B有了极大的进步，受到了晶圆厂和研究中心的青睐，但是也仅限于测试、试产、熟悉设备。

2017年，ASML推出的3400B成为真正的大杀器，台积电、三星等代工厂利用这批设备，将芯片迭代至7nm、5nm。

根据公开数据，ASML在2017—2022年，总共销售出182台EUV光刻机。

这182台光刻机被台积电、英特尔、三星、SK海力士、美光瓜分殆尽。

2018年时，内地晶圆代工企业中芯国际也购买了一台EUV光刻机，计划2019年交付，但由于美国的阻挠，至今也未到货。

根据《瓦森纳协定》，部分军工和高科技产品受到管控，涵盖了各类武器弹药、设备、作战平台、先进材料、设备、电子器件、计算机、推进系统等，EUV光刻机也在其中。

《瓦森纳协定》共有42个成员国，包括美国、英国、日本、加拿大、法国、德国、荷兰等，当然这42个国家不包括中国。

在这种不平等的协定下，内地企业根本拿不到EUV光刻机，即便是二手渠道也被卡得死死的。

二、先进的DUV光刻机也被限制

随着管控力度的加大，就连先进浸润式DUV光刻机也禁止向中国出口。

目前ASML的浸润式DUV光刻机主要有4种：NXT:1980Di、2000i、2050i 及 2100i。

根据ASML的公告，中国企业只能购买第一代NXT:1980Di，这款光刻机在性能、稳定性以及光刻速度上要落后于其他三款。

据说，台积电曾用1980Di制造出7nm芯片，但成本高、良品率低、漏电率高，后来转为EUV光刻机生产。

那么以中芯国际的能力，它能用一款落后的光刻机去实现7nm量产？恐怕也只能停留在28nm。

尴尬的是，ASML已经将主要精力用在EUV光刻机上了，又能够制造出多少符合出口条件的中低端设备呢？

所以未来中芯国际的日子不太好过啊！

三、出口至内地的光刻机或会“缩水”

以老美的作风，我们可以大胆的猜测，这款所谓的浸润式DUV光刻机会在精确度、光刻效率方面“缩水”。

有了台积电的前车之鉴，中芯国际会不会也要用1980Di制造更先进的芯片呢？这种可能不是没有。

但如果中芯国际拿到的就是“缩水版”的设备，再去耗费精力和时间，岂不是又中计了？

缺货、缩水、断供，都将降临在中芯国际头上。

中芯国际危机已经来临

作为内地最先进的晶圆代工企业，中芯国际的一路可谓饱经风霜。

台积电四诉中芯国际

1、2003年8月18日，中芯国际发展势头迅猛，台积电突然称中芯国际侵犯了其专利，并请求美国贸易委员会启动调查程序；

2、2003年12月22日，中芯国际上市前夕，台积电在美国加州起诉中芯国际，称其窃取了部分商业机密，中芯国际被迫推迟上市；

3、2004年3月，台积电向加州法院提交新的证据，同年8月，在加州启动针对中芯国际的第三次诉讼。

中芯国际不胜其扰，被迫达成和解协议：1、赔偿台积电1.75亿美金；2、将公司8%的股份划转至台积电；3、创始人张汝京离职。

中芯国际陷入混沌期

创始人张汝京离开后，中芯国际开始走下坡路，很多追随张汝京的工程师纷纷离职，公司董事长也几经变化。

短短21年，就经历了6任董事长。一个忙于人事变动的公司，还有什么精力去搞工艺迭代呢？

为此，中芯国际一度提出专注内部管理，暂不发展先进工艺。

被列入“实体清单”

2020年12月18日，中芯国际被美国商务部列入“实体清单”，这意味着凡是涉及美国的设备、零部件都需要批准才能购买使用。

因此，中芯国际在迈向7nm及以下的先进工艺时，又多了一个拦路虎。

此外，由于采用了大量含有美国技术的设备，中芯国际的客户也被限制了，例如某些服务就不能为华为提供。

美、日、荷半导体设备联盟

随着6月30日，荷兰发布的半导体设备出口禁令，美、日、荷半导体设备联盟基本已经形成。

三者的联盟可以说基本把控了全球的半导体设备。

相关数据显示：全球半导体设备市场上，美国占据41.7%的市场份额，日本占据31.1%，荷兰占据18.8，三者合计把控了91.6%的市场份额。

也就是说，全球91.6%的半导体设备会随时断供中芯国际，中芯国际真的是有苦说不出啊！

就在今年5月，中芯国际就表示，由于关键芯片设备的延迟交付，其位于北京的晶圆厂将不得不推迟一到两个季度开始量产。

此时，ASML又表示没有面向中国市场推出特别版的光刻机，这对中芯国际来说将是雪上加霜。

一台光刻机的寿命大约在十年左右，经历一两代芯片。随着时间的推移，中芯国际的光刻机寿命到期后，将陷入真正的危机。

新工厂无法投产，旧工厂设备到期，新旧产能均出现问题，那将是中芯国际的灭顶之灾。

所以，留给国产半导体设备的时间不多了！

28nm芯片产业链能否保住？

28nm及以上工艺的芯片使用率高达75%，只要掌握了28nm工艺，就能满足航空航天、通信、工业、家电、汽车等领域的需求。

至于智能手机、个人电脑、超算、自动驾驶所需要的先进芯片，只能进口或者减少使用。

28nm纯国产芯片产业链中，还有一项关键设备未攻克，那就是浸润式DUV光刻机（国产28nm光刻机）。

从多方面信息看出，28nm光刻机的四大核心技术已经攻克。

1、光源由北京科益虹源打造；

2、双工作台由清华大学和华卓精科共同打造；

3、浸没系统由浙江启尔机电打造；

4、光学镜片由中科院长春光机所制造。

5、整机系统则由上海微电子负责完成。

技术上完全可行，试验机也已经完成，剩下的就是测试、量产、配套，这个环节大概需要1至2年左右。

今年6月，中国电科也公司突破了28nm离子注入机，在光路、控制、软件等关键技术上均采用了自主技术。

至此，九大核心设备（光刻机、蚀刻机、离子注入机、PVD、CVD、抛光机、清洗机、涂胶/显影机、检测设备）已全部实现国产化。

但要把这些设备全部安装在一座工厂内，让它们高效的配合，这恐怕还需要我们的技术人员共同努力。

毕竟，之前采用的是进口设备，设备的尺寸、协调、配合以及工人的操作方便，均国产设备大有不同。

美、日、荷的设备限制已经到来，而国产设备还未准备好，在这“青黄不接”的几年中，28nm成熟工艺还能保住吗？

写到最后

ASML首席执行官温彼得称，出口管制虽然是合法工具，但不应该滥用。决策者在使用前之前应充分了解它的复杂性。

然而事实上，ASML根本没有话语权，它的背后股东是美国资本，使用的技术也来自美国。它甚至连残血版的EUV光刻机都无法提供。

尽管ASML是全球领先的光刻机企业，但对中国企业来说已经毫无意义，我们万不能再做“使用进口设备”的美梦了，我们只剩自主研发一条路可走。

我是科技铭程，欢迎共同讨论！